物理學(xué)報(bào)  1999, Vol. 48  Issue (5): 955-960

汪建華1, 袁潤(rùn)章1, 鄔欽崇2, 任兆杏2
(1)武漢工業(yè)大學(xué)材料復(fù)合新技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,武漢 430070; (2)中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所,合肥 230031
THE STUDY OF EPITAXIAL GROWTH ZnO THIN FILM ON A (0112) SAPPHIRE SUBSTRATE USING ECR PLASMA SPUTTERING METHOD
WANG JIAN-HUZ1, YUAN RUN-ZHANG1, WU QIN-CHONG2, REN ZHAO-XING2

摘要： 藍(lán)寶石上外延生長(zhǎng)ZnO薄膜在表面波和聲光器件中有重要的應(yīng)用．用微波電子回旋共振(ECR)等離子體濺射法在藍(lán)寶石(0112)晶面上外延生長(zhǎng)了ZnO薄膜，膜無(wú)色透明，并且表面光滑，基片溫度為380℃，為探索沉積工藝參數(shù)對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)的影響，用XRD對(duì)不同基片溫度和沉積速率生長(zhǎng)的ZnO薄膜進(jìn)行了研究．

引用本文:   
汪建華,袁潤(rùn)章,鄔欽崇 等 . 用微波ECR等離子體濺射法在藍(lán)寶石(0112)晶面上生長(zhǎng)ZnO薄膜的研究. 物理學(xué)報(bào), 1999, 48(5): 960. 
Cite this article:   
WANG JIAN-HUZ,YUAN RUN-ZHANG,WU QIN-CHONG et al. THE STUDY OF EPITAXIAL GROWTH ZnO THIN FILM ON A (0112) SAPPHIRE SUBSTRATE USING ECR PLASMA SPUTTERING METHOD. Acta Phys. Sin., 1999, 48(5): 955-960. 

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