2016 IEEE MTT微波領(lǐng)域先進(jìn)材料與加工工藝國(guó)際會(huì)議(IMWS-AMP 2016)
主辦單位: | 電子科技大學(xué) |
承辦單位: | 電子科技大學(xué) |
展會(huì)日期: | 2016年7月20日-22日 |
舉辦地址: | 成都岷山飯店 |
關(guān)注次數(shù): | 0 |
官方網(wǎng)站: | http://www.ee.uestc.edu.cn/imws-amp2016/index.html |

這個(gè)新平臺(tái)的目的在于促進(jìn)技術(shù)和教育活動(dòng)以及國(guó)際微波社區(qū)的交流和合作。會(huì)議緊緊圍繞石墨烯和2D材料、先進(jìn)的半導(dǎo)體設(shè)備(例如GaN)的建模,設(shè)計(jì)和應(yīng)用、太赫茲器件和相關(guān)工藝、新興材料的射頻/太赫茲材料特性等領(lǐng)域展開了討論。
本屆會(huì)議要討論的主題的范圍廣、涉及的深度深,總共涵蓋10項(xiàng)國(guó)內(nèi)外熱門前沿的科學(xué)技術(shù):
1.碳納米管與2D電子和光電子器件
2.包括寬禁帶材料的新型半導(dǎo)體材料
3.自旋波與磁振子晶體材料
4.用于吸收,隱私與操縱電波的超材料和等離子體材料
5.鐵氧體材料與超導(dǎo)材料
6.高級(jí)硅,集成無(wú)源器件與硅通孔技術(shù)
7.LTCC工藝,LCP塑料,大面積打印與噴墨打印
8.3D打印
9.無(wú)源/有源微波與太赫茲器件(材料表征,制造與應(yīng)用)
10.帶有高級(jí)/復(fù)合/人工材料與工藝的天線