最新的參數測試解決方案，采用“真”參數化引腳架構，并利用增強型直接電荷測量技術來提升速度

新聞要點：

•    是德科技P9000已是業界最快、功能最全的半導體參數測試解決方案，用于高級邏輯和記憶集成電路的研發和批量生產
•    第三代P9000憑借全新的參數測試單元模塊，可進一步提升測試速度，同時克服電容測量所面臨的挑戰
•    這款全新的測試單元模塊可測量尖端半導體電子過程中的泄漏電容，并提供100 引腳并行電容測量結果

是德科技（紐約證券交易所代碼：KEYS）近日宣布推出其第三代P9000 系列大規模并行參數測試系統。該系統不僅可加速新技術的快速發展，更降低了高級半導體邏輯和記憶集成電路開發和制造過程中的測試成本。例如，隨著新型器件結構和性能的提高，每個先進技術節點（小于或等于20 納米）的必要參數測試數據量將急劇增加。

P9000 推出后，可利用專門的引腳測試單元模塊，為硅晶圓上的多個器件提供100 引腳并行測量值。該模塊具備參數（例如，電壓、電流、電容、脈沖和頻率）測試所需的全部典型測試功能。此外，直接電荷測量（DCM）技術可實現快速的100 引腳并行電容測試。

第二代P9000 搭載是德科技開發的快速Vt測量技術。快速Vt測量技術提供閾值電壓（Vt）的單一測量值，其速度比任何常規測試方法要快四倍以上。除了100 引腳并行測量外，DCM 和快速Vt 測量技術可提供更快的單一參數測量值，從而進一步提升測試速度。因此，先進的芯片代工廠和存儲器公司現已采用P9000 平臺（第一代和第二代）作為下一代參數測試解決方案。

隨著第三代P9000 的推出，其采用全新引腳參數測試模塊（是德科技P9015A），測試器可進一步縮短電容測量的時間，從而解決了因多層互連和新器件結構導致電容測試量日益增加的難題。該全新模塊利用其增強型DCM技術來測量漏電電容，相比傳統LCR 測試器，其可在各類電容間建立良好的數據相關性，使單一電容測試速度提升兩倍以上。另外，憑借100 引腳并行電容測量能力，客戶可進一步提高吞吐量。

是德科技晶圓測試解決方案副總裁兼總經理Masaki Yamamoto表示：“許多半導體公司已將數以百計的P9000 用于研發和生產，例如，先進的邏輯芯片和內存制造。” “是德科技將繼續改進P9000，進一步降低客戶的上市時間，同時降低測試成本。 第三代P9000 采用100 引腳“真”參數引腳模塊，甚至具備傳統測試系統中使用的測試結構，為客戶帶來了疾速的并行參數測試解決方案。