運(yùn)作頻段為5.8 GHz時(shí)可達(dá)到0.75 dB噪聲值，提供更優(yōu)異的通訊接收靈敏度及低耗電量

日本東京訊 — 高級(jí)半導(dǎo)體廠商瑞薩電子株式會(huì)社（TSE：6723，以下簡(jiǎn)稱“瑞薩電子”）宣布推出新款SiGe:C異質(zhì)接面晶體管(SiGe:C HBT, 注 1)NESG7030M04，可作為低噪聲放大晶體管用于無(wú)線局域網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)、衛(wèi)星無(wú)線電及類似應(yīng)用。本裝置的制程采用全新開(kāi)發(fā)的硅鍺：碳(SiGe:C)材料(注2)并達(dá)到領(lǐng)先業(yè)界的低噪聲效能。

新款SiGe:C HBT晶體管可將無(wú)線接收到的微弱微波信號(hào)放大為適合的水平，以達(dá)到0.75 dB的噪聲值，為無(wú)線局域網(wǎng)絡(luò)及其它應(yīng)用所使用5.8 GHz頻段的業(yè)界最高水平。由于能夠以如此低的噪聲放大信號(hào)強(qiáng)度，因此可提高終端產(chǎn)品的通訊接收靈敏度。由于它可減少訊號(hào)傳輸錯(cuò)誤，因此其運(yùn)作耗電量可降低至具同等效能之瑞薩電子現(xiàn)有產(chǎn)品的四分之一。

瑞薩電子銷售適用于微波放大器應(yīng)用的晶體管及IC，為無(wú)線局域網(wǎng)絡(luò)、消費(fèi)性家用無(wú)線電話、地面數(shù)字電視廣播調(diào)整器以及包含GPS功能的設(shè)備等提供解決方案，并且在微波應(yīng)用晶體管領(lǐng)域獲得業(yè)界第一的市場(chǎng)占有率(瑞薩電子的估計(jì))。在上述背景之中，瑞薩電子已開(kāi)發(fā)出采用SiGe:C材料的全新制程技術(shù)，以響應(yīng)市場(chǎng)對(duì)于更低噪聲的需求，并且為衛(wèi)星廣播所使用的12 GHz以上的頻率提供解決方案。以此制程為基礎(chǔ)，瑞薩電子已開(kāi)發(fā)并推出NESG7030M04 SiGe:C HBT裝置，可達(dá)到業(yè)界最高水平的低噪聲效能，并且在數(shù)MHz至14 GHz頻段的頻率范圍內(nèi)皆可發(fā)揮穩(wěn)定效能。

(1) 業(yè)界最高水平的5.8 GHz頻段低噪聲效能
利用上述新開(kāi)發(fā)的SiGe:C制程(注3)，瑞薩電子5.8 GHz頻段SiGe:C HBT及SiGe HBT裝置可達(dá)到業(yè)界最低的噪聲值0.75 dB。相較于瑞薩電子先前的SiGe HBT裝置，改善了0.35 dB。另外，此裝置在最小噪聲值條件下可獲得14.0 dB增益。如此可使通訊接收靈敏度提升或使訊號(hào)傳輸錯(cuò)誤減少，而且新裝置能以瑞薩電子先前產(chǎn)品四分之一的耗電量，提供接近的效能。
(2) 更高的耐受電壓可在廣大的頻寬中提供穩(wěn)定運(yùn)作
在早期以硅為基礎(chǔ)的異質(zhì)接面晶體管中，無(wú)法避免藉由降低集極-射極耐受電壓以換得減少噪聲，而這限制了這些裝置可使用的應(yīng)用范圍。在此新款產(chǎn)品中，瑞薩電子最佳化集極-基極的特征，使其能夠確保4.3 V的耐受電壓等級(jí)。如此提高了所使用的電壓供應(yīng)范圍，并且在數(shù)MHz到14 GHz頻段的頻率范圍內(nèi)皆可發(fā)揮穩(wěn)定的運(yùn)作效能，使此裝置可用于更廣泛的應(yīng)用范圍。例如，它支持所有ISM頻段(注4)應(yīng)用，包括智能電網(wǎng)、智能電表及家庭局域網(wǎng)絡(luò)(HAN)應(yīng)用。
另外，由于此晶體管是為了微波應(yīng)用而開(kāi)發(fā)的，因此瑞薩電子提供業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的4-pin薄型迷你模型封裝(瑞薩電子封裝名稱：M04封裝)。因此，此產(chǎn)品有助于減少使用者終端產(chǎn)品的制造步驟，例如由于現(xiàn)有封裝的良好記錄，可簡(jiǎn)化安裝評(píng)估程序，或者使用現(xiàn)有的電路板線路圖，僅需稍微修改周圍的電路。

在利用上述新制程的優(yōu)勢(shì)，擴(kuò)充其具有業(yè)界最高水平低噪聲效能的雙極晶體管產(chǎn)品線的同時(shí)，瑞薩電子亦承諾將此新制程部署至微波IC的開(kāi)發(fā)，并進(jìn)一步提供此領(lǐng)域的解決方案，以響應(yīng)市場(chǎng)需求。

(注 1) 此為結(jié)合瑞薩電子SiGe:C異質(zhì)接面晶體管與0.15 μm CMOS制程，并針對(duì)微波IC應(yīng)用進(jìn)行最佳化的fT = 100 GHz制程。
BiCMOS: Bipolar complementary metal oxide semiconductor(雙極互補(bǔ)金氧半導(dǎo)體)的縮寫(xiě)。這是可制造混合雙極與CMOS裝置的制程。它可藉由結(jié)合針對(duì)高頻率電路進(jìn)行最佳化的雙極技術(shù)以及支持高密度低功率電路設(shè)計(jì)的CMOS技術(shù)，用于制造微波應(yīng)用IC。
瑞薩電子將此制程定位為繼瑞薩電子使用至今的制程之后的次世代制程，并承諾將繼續(xù)致力于開(kāi)發(fā)此制程。
(注 2) 硅鍺：碳異質(zhì)接面晶體管(SiGe:C HBT)是針對(duì)微波應(yīng)用進(jìn)行最佳化的晶體管，實(shí)作方法是結(jié)合可提升裝置效能的制程技術(shù)(在硅晶體管基礎(chǔ)中加入少量的鍺與碳)以及形成可在半導(dǎo)體中以高密度進(jìn)行高速傳輸之電路的制程(利用異質(zhì)接面)。
(注 3) SiGe:C制程在此新產(chǎn)品的應(yīng)用
為達(dá)成微波范圍內(nèi)的低噪聲目標(biāo)，瑞薩電子利用新開(kāi)發(fā)的SiGe:C制程以及可降低晶體管基極60%電阻的最佳化選擇性磊晶成長(zhǎng)晶體成長(zhǎng)技術(shù)(包括射極、基極及集極架構(gòu))，并最佳化其0.15 μm精密制造技術(shù)，致力于提高基極的電子速度并降低基極的電阻。
磊晶成長(zhǎng)：一種制程技術(shù)，可將半導(dǎo)體中的晶體成長(zhǎng)限制在形成晶體管基極層的部分。
(注 4) ISM: Industrial scientific and medical band(工業(yè)科學(xué)醫(yī)療頻段)的縮寫(xiě)。ISM 頻段為提供工業(yè)、科學(xué)及醫(yī)療領(lǐng)域之一般用途而配置的頻率頻段。使用此頻段的無(wú)線系統(tǒng)包括無(wú)線局域網(wǎng)絡(luò)、藍(lán)牙、業(yè)余無(wú)線電、DSRC、各種雷達(dá)、無(wú)線電話、ZigBee及其它應(yīng)用。
SiGe:C HBT產(chǎn)品規(guī)格，請(qǐng)參閱附件

關(guān)于瑞薩電子株式會(huì)社
瑞薩電子株式會(huì)社（TSE：6723），是全球首屈一指的微控制器供應(yīng)商和高級(jí)半導(dǎo)體解決方案的首選供應(yīng)商，產(chǎn)品包括微控制器、SoC解決方案和各種模擬與功率器件。2010年4月，NEC電子公司（TSE：6723）和株式會(huì)社瑞薩科技合并成立了瑞薩電子株式會(huì)社，公司業(yè)務(wù)覆蓋了面向各種應(yīng)用的研究、開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)與制造。瑞薩電子株式會(huì)社總部設(shè)在日本，在全球20多個(gè)國(guó)家均設(shè)有分公司。欲了解更多信息，敬請(qǐng)?jiān)L問(wèn)網(wǎng)站：www.renesas.com。