屏蔽技術可防止外部EMI／RFI對電路或系統的影響，但要正確應用屏蔽技術，就必須清楚干擾源、環境、干擾源與被干擾對象之間的距離等問題。如果電路或系統靠近干擾源，電磁場特性取決于干擾源；如果電路遠離干擾源，電磁場特性取決于傳輸介質。當電路與干擾源的距離小于λ／2π（λ為干擾信號波長）時，就認為電路靠近干擾源，否則，認為遠離干擾源。

EMI／RFI對電路的影響與其特性阻抗有關，電磁場的特性阻抗（波阻抗）取決于電場和磁場之比。對于遠電磁場，其電磁比率就是空氣的波阻抗（Z＝377Ω）；對于近電磁場，波阻抗取決于干擾的固有特性及距干擾源的距離，如果干擾是高電流低電壓，則磁場占主要地位，波阻抗小于377Ω，如果干擾是低電流高電壓，則電場起主要作用，波阻抗大于377Ω。通常采用封閉導體對電路進行屏蔽，封閉導體對電路屏蔽的有效性取決于屏蔽材料表面對入射波的反射損耗和屏蔽體對內部發射波的吸收損耗。對于電場，反射損耗取決于干擾頻率和屏蔽材料，即

適當的封閉屏蔽體對防止外部干擾和限制內部干擾是很有效的，然而，在實際工程中，由于內部電路中的調節旋紐、開關、連接器及通風大呢感原因，經常需要在屏蔽體上開設槽孔，這將削弱屏蔽性能，導致干擾進入系統內部。這種情況下的屏蔽效率為：屏蔽效率

式中λ為干擾信號的波長；L為槽孔的最大長度。

當屏蔽體哂納感所開槽孔的最大長度等于干擾頻率波長的一半時，輻射最大，相當于沒有屏蔽效果。為此，在屏蔽體上開設槽孔時，其最大長度要小于干擾信號波長的1／20，同時應在多個面開設而不是在一個面開設槽孔。

8、結論

在日益復雜的電磁環境下，如何減小相互間的電磁干擾，使各種設備和系統能正常運轉，是一個亟待解決的問題。在采用不同的方法對EMI／RFI精心抑制時，應分析其綜合效應，并對所采用的干擾抑制手段的作用進行恰當的預估，才能獲得較理想的效果。

作者：李貴山、楊建平、黃曉峰

9、參考文獻

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