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愛德萬測試成功開發出半導體電路分析太赫茲技術

2015-06-12 來源:微波射頻網 字號:

加速次太赫茲波通信、芯片及3D組件開發

半導體測試設備領導者愛德萬測試(Advantest)宣布開發出應用于電路分析的短脈沖太赫茲波技術,該技術主要用于分析次太赫茲波段(100GHz~1THz) 組件的傳輸特性(S-參數),以及偵測芯片電路故障特征與位置(TDT/TDR)。此項新技術克服了現行技術的測量局限性與難以負擔的成本問題,可望大幅帶動先進裝置的發展,擴大應用層面。

1、次太赫茲波傳輸特性分析技術

隨著智能型手機與各式行動裝置日趨普及,無線通信流量激增,現行規定頻率范圍內所能負荷的容量已不敷使用,因此,較高頻率范圍、尚未用于無線通信的次太赫茲波段,逐漸成為全球研發重點。

次太赫茲波通信應用情境

圖1、次太赫茲波通信應用情境   數據源︰日本總務省

在開發高頻組件過程中,測量系統整體頻率特性尤為重要,包括評估主動組件增益與I/O阻抗、電路板與連接器等,其中會涉及輸出信號振幅和相位的反射與傳輸特性的測量,即所謂S-參數(散射參數)。然而現今市面上的網絡分析儀一次測量范圍上限僅為100GHz,若超過此限,工程師只能不斷反復修改設備與測量方式的設定,這不僅造成額外工作負擔、耗費更多時間,也影響測量數據的連續性,測量成本更會因此倍增。

愛德萬測試這項最新技術的目標就在于大幅降低上述負擔︰采用飛秒光學脈沖激光做為信號源,透過寬帶光學/電子探棒,進行一階段(one-pass) 式的S-參數測量,最高可支持1.5THz,如此所帶來的效率提升效益將讓使用者縮短時間、減輕工作負擔,進而降低成本。

2、高空間分辨率芯片布線質量分析技術

盡管半導體電路尺寸日益縮小有助于消費性電子產品體積輕巧化、指令周期加快,卻使得摩爾定律面臨技術瓶頸之虞。為避免微型化發展遭遇物理極限難題,芯片制造商正著手研發3D半導體芯片,讓單一封裝能夠實現電路多層化。其中最大的挑戰便是布線故障分析。由于電路板相互堆棧,無論是X光或其他現行檢測技術,都難以找出布線故障點,如開路、短路、阻抗、電路不匹配等問題。一般而言,偵測這些問題,會利用示波器TDR (時域反射) 和/或TDT (時域傳輸) 分析功能,但芯片尺寸走向微型化,必須具備超高空間分辨率才能進行故障分析。

3D半導體布線故障與TDR測量范例

圖2、3D半導體布線故障與TDR測量范例

愛德萬此項全新技術采用飛秒光學脈沖激光做為信號源,能夠提供極優異的空間分辨率,分辨率可小于5μm,最大測量范圍達300mm。在承襲愛德萬測試深獲客戶肯定的太赫茲波光譜造影系統基礎下,飛秒光學脈沖激光同樣擁有極高分辨率,此外,這項新技術還提供了比對功能,能夠精確判斷組件CAD數據數據上的布線故障位置,最適于分析高度復雜的高密度電路缺陷。

2015年5月27-29日愛德萬測試于東京Big Sight舉辦的Wireless Technology Park展覽上展示應用此項新技術開發的系統原型,預定于2015會計年(即2016年3月底) 推出相關產品。

主題閱讀: 愛德萬  太赫茲
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